АСМЛ планира да лансира напредну Хипер-НА ЕУВ литографску опрему

Према Цхосун Илбо, холандски произвођач литографских машина АСМЛ планира да лансира напредну Хипер-НА ЕУВ литографску опрему за процесе испод 1 нанометра 2030. године. Међутим, очекује се да ће сваки уређај коштати више од 724 милиона долара, што би могло забранити ливнице полупроводника као што су ТСМЦ, Самсунг и Интел.