Az ASML fejlett Hyper-NA EUV litográfiai berendezés bevezetését tervezi

Chosun Ilbo szerint a holland litográfiai gépeket gyártó ASML azt tervezi, hogy 2030-ban fejlett Hyper-NA EUV litográfiai berendezést indít 1 nanométer alatti folyamatokhoz. Minden egyes eszköz azonban várhatóan több mint 724 millió dollárba kerül, ami betilthatja a félvezető-öntödéket, mint például a TSMC, a Samsung és az Intel.