ASML သည် အဆင့်မြင့် Hyper-NA EUV lithography ပစ္စည်းကိရိယာများကို လွှင့်တင်ရန် စီစဉ်နေသည်။

Chosun Ilbo ၏ အဆိုအရ Dutch ဓါတ်ပုံရိုက်စက် ထုတ်လုပ်သူ ASML သည် 2030 တွင် 1 nanometer အောက် လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အဆင့်မြင့် Hyper-NA EUV lithography ပစ္စည်းကို စတင်ထုတ်လုပ်ရန် စီစဉ်နေကြောင်း သိရသည်။ သို့သော် TSMC၊ Samsung နှင့် Intel ကဲ့သို့သော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း စက်ရုံများကို တားမြစ်နိုင်သည့် စက်ပစ္စည်းတစ်ခုစီသည် ဒေါ်လာ ၇၂၄ သန်းကျော်ကုန်ကျမည်ဟု မျှော်လင့်ရသည်။