Plano ng ASML na maglunsad ng mga advanced na kagamitan sa lithography ng Hyper-NA EUV

Ayon kay Chosun Ilbo, plano ng Dutch lithography machine manufacturer na ASML na maglunsad ng advanced Hyper-NA EUV lithography equipment para sa mga prosesong mas mababa sa 1 nanometer noong 2030. Gayunpaman, ang bawat device ay inaasahang nagkakahalaga ng higit sa $724 milyon, na maaaring nagbabawal sa mga semiconductor foundry gaya ng TSMC, Samsung at Intel.