ASML გეგმავს მოწინავე Hyper-NA EUV ლითოგრაფიული აღჭურვილობის გამოშვებას

Chosun Ilbo-ს თქმით, ჰოლანდიური ლითოგრაფიული აპარატების მწარმოებელი ASML გეგმავს 2030 წელს გამოუშვას მოწინავე Hyper-NA EUV ლითოგრაფიული მოწყობილობა 1 ნანომეტრზე ნაკლები პროცესებისთვის. თუმცა, მოსალოდნელია, რომ თითოეული მოწყობილობა 724 მილიონ დოლარზე მეტი დაჯდება, რამაც შესაძლოა აკრძალოს ნახევარგამტარული სამსხმელო ქარხნები, როგორიცაა TSMC, Samsung და Intel.