ASML consilia ad launch processit apparatum Lithographiae Hyper-NA EUV

Secundum Chosun Ilbo, fabrica fabrica lithographia Batavica ASML consilia ad apparatum lithographiae hyper-NA EUV deducendum pro processibus infra 1 nanometrum in 2030 mittendum. Unaquaeque tamen machina expectatur plus quam $724 decies centena millia constare, quae interdicere possunt fundamenta semiconductoria ut TSMC, Samsung et Intel.