TSMCs 2nm-procesteknologi skrider jævnt frem

TSMC planlægger at starte prøveproduktion af 2nm proceschips på sin fabrik i Baoshan, Hsinchu i næste uge, et kvarter før markedets forventninger. Prøveproduktion vil omfatte test af det nødvendige udstyr og komponenter, som er blevet installeret med start i andet kvartal. TSMC sagde, at sammenlignet med 3nm kan 2nm-processen forbedre ydeevnen med 10% til 15% og reducere strømforbruget med op til 30%. TSMC vil anvende GAA nanosheet-transistorstrukturen fra 2nm-processen og introducere bagside strømforsyningsteknologi (BSPR) og forventes at starte masseproduktion i 2026.