TSMC 2 nm proceso technologija vystosi sklandžiai

Kitą savaitę TSMC planuoja pradėti bandomąją 2 nm proceso lustų gamybą savo gamykloje Baošane, Hsinču, ketvirtadaliu anksčiau nei rinkos lūkesčiai. Bandomoji gamyba apims reikalingos įrangos ir komponentų testavimą, kurie buvo montuojami nuo antrojo ketvirčio. TSMC teigė, kad, palyginti su 3 nm, 2 nm procesas gali pagerinti našumą 10–15% ir sumažinti energijos suvartojimą iki 30%. TSMC taikys GAA nanolapų tranzistorių struktūrą nuo 2 nm proceso ir pradės masinę maitinimą (BSPR) 2026 m.