TSMC ၏ 2nm လုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာသည် ချောမွေ့စွာ တိုးတက်နေသည်။

TSMC သည် စျေးကွက်မျှော်လင့်ချက်ထက် လေးပုံတစ်ပုံထက် လေးပုံတစ်ပုံခန့်ကို Baoshan၊ Hsinchu တွင် လာမည့်အပတ်တွင် ၎င်း၏ Fab တွင် 2nm လုပ်ငန်းစဉ် ချစ်ပ်များ စမ်းသပ်ထုတ်လုပ်ရန် စီစဉ်နေပါသည်။ စမ်းသပ်ထုတ်လုပ်ရာတွင် ဒုတိယသုံးလပတ်တွင် စတင်တပ်ဆင်ခဲ့သော လိုအပ်သော စက်ကိရိယာများနှင့် အစိတ်အပိုင်းများကို စမ်းသပ်ခြင်း ပါဝင်သည်။ 3nm နှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက 2nm လုပ်ငန်းစဉ်သည် စွမ်းဆောင်ရည် 10% မှ 15% အထိ တိုးတက်စေပြီး ပါဝါသုံးစွဲမှုကို 30% အထိ လျှော့ချနိုင်သည်ဟု TSMC မှ ပြောကြားခဲ့ပါသည်။ TSMC သည် 2nm လုပ်ငန်းစဉ်မှစတင်ကာ GAA nanosheet ထရန်စစ္စတာဖွဲ့စည်းပုံကို အသုံးပြုမည်ဖြစ်ပြီး backside power supply (BSPR) နည်းပညာကို မိတ်ဆက်မည်ဖြစ်ပြီး 2026 ခုနှစ်တွင် အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုကို စတင်ရန် မျှော်လင့်ထားသည်။