ជំរាបសួរ លេខា ដុង ខ្ញុំបានអានអត្ថបទមួយថ្ងៃនេះ ហើយបានដឹងថា វិធីសាស្ត្ររៀបចំស្រទាប់ខាងក្រោម SiC ដំណាក់កាលរាវ មានអត្ថប្រយោជន៍ជាក់ស្តែង បើប្រៀបធៀបនឹងវិធីសាស្ត្រ PVT ខ្ញុំឆ្ងល់ថាតើក្រុមហ៊ុនបានធ្វើការស្រាវជ្រាវលើវិធីសាស្ត្រដំណាក់កាលរាវដែរឬទេ? ការសាកល្បងតូចមួយឬខ្សែសង្វាក់ផលិតកម្ម? លើសពីនេះ សម្ភារៈ semiconductor ជំនាន់ទី 4 ដែលការនាំចេញត្រូវបានរឹតបន្តឹងដោយសហរដ្ឋអាមេរិកក៏ជាទិសដៅស្រាវជ្រាវមួយរបស់សាស្រ្តាចារ្យ Xu Xiangang តើក្រុមហ៊ុនរបស់អ្នកមានកិច្ចសហប្រតិបត្តិការឧស្សាហូបនីយកម្មជាមួយសាកលវិទ្យាល័យ Shandong លើ semiconductors ជំនាន់ទី 4 ដែរឬទេ? ប្រសិនបើមានតម្រូវការរក្សាការសម្ងាត់ អ្នកអាចឆ្លើយបាន៖ កម្រិតខ្ពស់

Tianyue Xianjin: អ្នកវិនិយោគជាទីគោរព ជំរាបសួរ! បច្ចេកវិជ្ជារៀបចំស្រទាប់ខាងក្រោមស៊ីលីកុនកាបូនរួមមាន PVT (ការដឹកជញ្ជូនចំហាយរូបវិទ្យា) វិធីសាស្រ្តនៃដំណោះស្រាយ និងវិធីសាស្ត្របំប្លែងសារធាតុគីមីដំណាក់កាលចំហាយសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ បច្ចុប្បន្នឧស្សាហកម្មនេះភាគច្រើនប្រើវិធីសាស្ត្រ PVT សម្រាប់ការលូតលាស់គ្រីស្តាល់តែមួយរបស់ស៊ីលីកុន។ ក្រុមហ៊ុនបានចូលរួមយ៉ាងស៊ីជម្រៅក្នុងវិស័យស្រទាប់ខាងក្រោមស៊ីលីកុនកាបូនអស់រយៈពេលជាងដប់ឆ្នាំមកហើយ ហើយតែងតែឈានមុខគេក្នុងការអភិវឌ្ឍន៍បច្ចេកវិទ្យា "បច្ចេកវិទ្យាការរៀបចំគ្រីស្តាល់តែមួយដំណាក់កាលនៃសារធាតុស៊ីលីកុន" គឺជាបច្ចេកវិទ្យាមួយក្នុងចំណោមបច្ចេកវិទ្យាដែលពាក់ព័ន្ធពីមុនរបស់ក្រុមហ៊ុន។ ក្រុមហ៊ុនតែងតែប្រកាន់ខ្ជាប់នូវ "បច្ចេកវិទ្យារឹង" យ៉ាងដិតដល់នូវនិន្នាការអភិវឌ្ឍន៍នៃបច្ចេកវិទ្យាឧស្សាហកម្ម ទទូចលើ R&D និងការច្នៃប្រឌិតដែលជាកត្តាសំខាន់នៃការអភិវឌ្ឍន៍រយៈពេលវែងរបស់ក្រុមហ៊ុន ចាប់យកឱកាសអភិវឌ្ឍន៍នៃឧស្សាហកម្ម semiconductor បន្តពង្រឹងសមត្ថភាពប្រតិបត្តិការផ្ទាល់ខ្លួន។ ខិតខំពង្រីកចំណុចកំណើនប្រាក់ចំណេញ និងបន្តខិតខំបង្កើនតម្លៃរបស់ក្រុមហ៊ុន។ ខ្ញុំសូមកោតសរសើរ និងអរគុណចំពោះការយល់ដឹងស៊ីជម្រៅរបស់អ្នកអំពីឧស្សាហកម្ម ការយកចិត្តទុកដាក់ និងការគាំទ្ររបស់អ្នកចំពោះក្រុមហ៊ុន ហើយសូមជូនពរឱ្យអ្នកជួបតែសេចក្តីសុខ!