Shanghai Silicon Industry плануе інвеставаць у будаўніцтва 300-міліметровай крамянёвай пласціны, праект мадэрнізацыі магутнасці для інтэгральных схем

Кампанія Shanghai Silicon Industry абвясціла, што плануе інвеставаць у праект па мадэрнізацыі вытворчых магутнасцей 300-міліметровых крамянёвых пласцін для інтэгральных схем з агульным аб'ёмам інвестыцый прыблізна 13,2 мільярда юаняў. Праект падзелены на дзве часткі: праект Taiyuan і праект Shanghai. Shanghai Silicon Industry будзе сумесна інвеставаць праз сваю даччыную кампанію Shanghai Xinsheng або яе даччыныя кампаніі з Нацыянальным вялікім фондам Phase II, Taiyuan Fenshui Capital Management Co., Ltd., для стварэння даччынай кампаніі Taiyuan Jinke Silicon Materials Technology Co., Ltd. Тайюанскі праект па мадэрнізацыі вытворчых магутнасцей 300-міліметровых крамянёвых пласцін для інтэгральных схем. 15 ліпеня была афіцыйна створана кампанія Taiyuan Jinke Silicon Materials Technology Co., Ltd. са статутным капіталам у 5,5 мільярда юаняў. Кампанію сумесна трымаюць тры асноўныя акцыянеры, у тым ліку National Integrated Circuit Industry Investment Fund II Co., Ltd., Taiyuan Jinke Semiconductor Technology Co., Ltd. і Taiyuan Fenshui Capital Management Co., Ltd.