YOFC ir Huairou laboratorija pasirašė bendradarbiavimo susitarimą dėl silicio karbido projekto mokslinių ir technologinių laimėjimų transformacijos.

Liepos 31 d. „Changfei Advanced Semiconductor Co., Ltd.“ ir „Huairou Laboratory“ Pekine sėkmingai pasirašė susitarimą bendrai skatinti silicio karbido galios įrenginių tyrimus ir plėtrą bei tyrimų rezultatų transformaciją. Bendradarbiavimu siekiama skatinti ekologiškos ir mažai anglies dioksido į aplinką išskiriančios energijos transformaciją bei tvarią plėtrą.