Intel's "IDM 2.0"-strategie

De "IDM 2.0"-strategie van Intel is erop gericht om Intels leiderschap in de wereldwijde halfgeleiderindustrie opnieuw vorm te geven door middel van technologische innovatie en procesverbetering. Deze strategie omvat de introductie van High NA EUV-lithografiemachines, een ultramoderne chipproductieapparatuur die de chipprestaties en transistordichtheid aanzienlijk kan verbeteren. Intel is van plan om de High NA EUV-technologie vanaf 2027 te gebruiken voor commerciële productie en in 2030 break-even te bereiken met zijn gieterijactiviteiten.