Intel seng "IDM 2.0" Strategie

Dem Intel seng "IDM 2.0" Strategie zielt d'Leedung vun Intel an der globaler Hallefleitindustrie duerch technologesch Innovatioun a Prozessverbesserung ëmzeformen. Dës Strategie ëmfaasst d'Aféierung vun High NA EUV Lithographie Maschinnen, engem Staat-vun-der-Konscht Chip Fabrikatioun Equipement datt Chip Leeschtung an Transistor Dicht bedeitend verbesseren kann. Intel plangt High NA EUV Technologie fir kommerziell Produktioun bis 2027 ze benotzen an Break-Even a sengem Schmelzgeschäft bis 2030 z'erreechen.