Strategia Intel „IDM 2.0”.

Strategia „IDM 2.0” a Intel își propune să remodeleze liderul Intel în industria globală a semiconductoarelor prin inovație tehnologică și îmbunătățirea proceselor. Această strategie include introducerea mașinilor de litografie High NA EUV, un echipament de ultimă generație pentru fabricarea cipurilor, care poate îmbunătăți semnificativ performanța cipului și densitatea tranzistorului. Intel intenționează să pună tehnologia High NA EUV în producția comercială până în 2027 și să atingă pragul de rentabilitate în activitatea sa de turnătorie până în 2030.