Intel "IDM 2.0" stratēģija

Intel "IDM 2.0" stratēģijas mērķis ir pārveidot Intel vadošo pozīciju globālajā pusvadītāju nozarē, izmantojot tehnoloģiskas inovācijas un procesu uzlabošanu. Šī stratēģija ietver augstas NA EUV litogrāfijas iekārtu ieviešanu, kas ir vismodernākās mikroshēmu ražošanas iekārtas, kas var ievērojami uzlabot mikroshēmas veiktspēju un tranzistora blīvumu. Intel plāno ieviest High NA EUV tehnoloģiju komerciālā ražošanā līdz 2027. gadam un līdz 2030. gadam sasniegt peļņu savā liešanas biznesā.