Ang diskarte ng Intel na "IDM 2.0".

Ang diskarte ng "IDM 2.0" ng Intel ay naglalayong muling hubugin ang pamumuno ng Intel sa pandaigdigang industriya ng semiconductor sa pamamagitan ng teknolohikal na pagbabago at pagpapabuti ng proseso. Kasama sa diskarteng ito ang pagpapakilala ng High NA EUV lithography machine, isang makabagong kagamitan sa paggawa ng chip na maaaring makabuluhang mapabuti ang pagganap ng chip at density ng transistor. Plano ng Intel na ilagay ang teknolohiyang High NA EUV sa komersyal na produksyon pagsapit ng 2027 at makamit ang break-even sa negosyong pandayan nito sa 2030.