Intel se "IDM 2.0"-strategie

Intel se "IDM 2.0"-strategie het ten doel om Intel se leierskap in die wêreldwye halfgeleierbedryf te hervorm deur tegnologiese innovasie en prosesverbetering. Hierdie strategie sluit die bekendstelling van High NA EUV litografiemasjiene in, 'n moderne skyfievervaardigingstoerusting wat skyfieverrigting en transistordigtheid aansienlik kan verbeter. Intel beplan om High NA EUV-tegnologie teen 2027 in kommersiële produksie te plaas en teen 2030 gelykbreekpunt in sy gieterybesigheid te bereik.