Samsung Electronics vähentää merkittävästi EUV-litografialaitteiden hankintasuunnitelmia ASML:n avulla

Samsung Electronics ilmoitti äskettäin vähentävänsä merkittävästi EUV-litografialaitteiden hankintasuunnitelmiaan hollantilaisen ASML:n kanssa. Alun perin käyttöön otettavien seuraavan sukupolven EUV-litografialaitteiden lukumäärää vähennetään neljästä kahteen, ja niiden mittakaava on noin biljoona von. Alkuperäinen suunnitelma oli investoida 700 miljoonaa euroa (noin 1 biljoona wonia) tutkimus- ja kehityskeskuksen perustamiseksi pääkaupunkiseudulle ja uuden sukupolven litografialaitteiden kehittämisen edistämiseen, mutta tämä suunnitelma on nyt keskeytetty.