Samsung Electronics កាត់បន្ថយយ៉ាងខ្លាំងនូវផែនការលទ្ធកម្មឧបករណ៍ EUV lithography ជាមួយ ASML

ថ្មីៗនេះ ក្រុមហ៊ុន Samsung Electronics បានប្រកាសថា ខ្លួននឹងកាត់បន្ថយយ៉ាងខ្លាំងនូវផែនការលទ្ធកម្មឧបករណ៍ EUV lithography ជាមួយក្រុមហ៊ុនហូឡង់ ASML ។ ចំនួននៃឧបករណ៍ lithography EUV ជំនាន់ក្រោយដែលគ្រោងនឹងដាក់បង្ហាញដំបូងនឹងត្រូវកាត់បន្ថយពី 4 ទៅ 2 ជាមួយនឹងទំហំប្រហែល 1 ពាន់ពាន់លានវ៉ុន។ ផែនការដើមគឺត្រូវវិនិយោគ 700 លានអឺរ៉ូ (ប្រហែល 1 ពាន់ពាន់លានវ៉ុន) ដើម្បីបង្កើតមជ្ឈមណ្ឌលស្រាវជ្រាវ និងអភិវឌ្ឍន៍នៅតំបន់ទីប្រជុំជន និងជំរុញការអភិវឌ្ឍឧបករណ៍ lithography ជំនាន់ក្រោយ ប៉ុន្តែផែនការនេះត្រូវបានផ្អាក។