Ang Samsung Electronics ay makabuluhang binabawasan ang EUV lithography equipment procurement plan sa ASML

269
Kamakailan ay inanunsyo ng Samsung Electronics na makabuluhang bawasan nito ang mga plano sa pagkuha ng EUV lithography equipment nito sa Dutch company na ASML. Ang bilang ng mga susunod na henerasyong EUV lithography equipment na orihinal na binalak na ipakilala ay babawasan mula 4 hanggang 2, na may sukat na humigit-kumulang 1 trilyong won. Ang orihinal na plano ay mamuhunan ng 700 milyong euros (mga 1 trilyong won) upang magtatag ng isang sentro ng pananaliksik at pagpapaunlad sa lugar ng metropolitan at isulong ang pagbuo ng mga susunod na henerasyong kagamitan sa lithography, ngunit ang planong ito ay nasuspinde na ngayon.