A Puxing Electronics divulgou o segundo edital de avaliação de impacto ambiental do projeto de industrialização de wafer epitaxial de carboneto de silício com defeito de baixa densidade de 6 polegadas

A Hebei Puxing Electronic Technology Co., Ltd. (abreviadamente Puxing Electronic) anunciou recentemente o segundo aviso público da avaliação de impacto ambiental do projeto de industrialização de wafer epitaxial de carboneto de silício com defeito de baixa densidade de 6 polegadas em seu site oficial. O investimento total do projeto é de RMB 350 milhões. Ele planeja usar sua planta nº 1 com uma área de construção de cerca de 4.000 metros quadrados para comprar 116 conjuntos de equipamentos epitaxiais de carboneto de silício e equipamentos de suporte para estabelecer uma linha de produção de material epitaxial de carboneto de silício com defeito de baixa densidade de 6 polegadas. Espera-se que, após a conclusão do projeto, ele tenha uma capacidade de produção anual de 240.000 wafers epitaxiais de carboneto de silício.