Intel introduceert voor het eerst de geavanceerde lithografiemachine van ASML

Intel heeft bekendgemaakt dat de eerste twee geavanceerde lithografiemachines van ASML in gebruik zijn genomen in haar fabrieken. De eerste resultaten laten zien dat ze betrouwbaarder zijn dan eerdere modellen. Volgens Intel senior principal engineer Steve Carson kan Intel met behulp van ASML's high numerical aperture (High NA) EUV lithography machine 30.000 wafers per kwartaal produceren. Deze grote siliciumwafers kunnen worden gebruikt om duizenden computerchips te produceren.