Intel presenta por primera vez la máquina de litografía de última generación de ASML

Intel anunció que las dos primeras máquinas de litografía de última generación de ASML han entrado en funcionamiento en sus fábricas, y los resultados iniciales muestran que son más confiables que los modelos anteriores. Según Steve Carson, ingeniero principal de Intel, utilizando la máquina de litografía EUV de alta apertura numérica (High NA) de ASML, Intel puede producir 30.000 obleas en un trimestre. Estas grandes obleas de silicio se pueden utilizar para producir miles de chips informáticos.