Über Puxing Electronics

Hebei Puxing Electronic Technology Co., Ltd. ist eine von der China Electronics Technology Group Corporation Semiconductor Materials Co., Ltd. kontrollierte Aktiengesellschaft. Sie wurde im November 2000 gegründet und widmet sich der epitaktischen Forschung und Entwicklung sowie der Produktion von Hochleistungshalbleitermaterialien. Die Hauptprodukte von Puxing sind epitaktische Wafer auf Siliziumbasis, epitaktische Wafer aus Galliumnitrid und Siliziumkarbid verschiedener Spezifikationen und Modelle. Es kann in den Bereichen saubere Energie, Fahrzeuge mit alternativer Energie, Luft- und Raumfahrt, Automobile, Computer, Tablets, Smartphones, Haushaltsgeräte und anderen Bereichen vielseitig eingesetzt werden. Unsere Kunden verteilen sich über das chinesische Festland, Hongkong, Taiwan, die Vereinigten Staaten, Japan, Südkorea, Russland, Indien und andere internationale Märkte und wir genießen auf in- und ausländischen Märkten ein hohes Ansehen. Wir waren nicht nur das erste Unternehmen in China, das 8-Zoll-Silizium-Epitaxiewafer in Massenproduktion herstellte und verschiedene Auszeichnungen gewann, sondern übernahmen auch die Führung bei der Entwicklung von Halbleitermaterialien der dritten Generation mit großem Bandabstand, Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (CaN). Diese Materialien haben die physikalischen Grenzen von Si-basierten Geräten durchbrochen und verfügen über Eigenschaften wie große Bandabstandsbreite, hohe Wärmeleitfähigkeit, hohe Elektronensättigungsmigrationsrate und hohes Durchbruchselektrofeld. Sie bieten unersetzliche Vorteile in den Bereichen Hochtemperatur-, Hochdruck-, Hochfrequenz- und Hochleistungselektronikgeräte sowie in Anwendungen in extremen Umgebungen wie der Luft- und Raumfahrt, der Militärindustrie und der Kernenergie.