英特尔在2nm工艺竞争中展现进取姿态

英特尔在2nm工艺竞争中展现出积极的进取姿态，不仅率先采购了ASML的High NA EUV光刻机，还计划采用创新的背面供电技术。这些举措将有助于英特尔在2nm工艺领域取得领先地位，进而推动其IDM2.0战略的实施。