ຫວຽດນາມມີແຜນຈະສ້າງເຕົາອົບອີກ 2 ແຫ່ງໃນລະຫວ່າງປີ 2030 ຫາ 2040

478
ລັດຖະບານຫວຽດນາມ ມີເປົ້າໝາຍຈະກໍ່ສ້າງອີກ 2 ແຫ່ງໃນລະຫວ່າງປີ 2030 – 2040, ແລະ ເພີ່ມເຕີມອີກ 3 ແຫ່ງໃນລະຫວ່າງປີ 2040 – 2050. ເຕົາອົບ wafer ໃໝ່ເຫຼົ່ານີ້ຈະເສີມຂະຫຍາຍທ່າທີຂອງຫວຽດນາມໃນຕ່ອງໂສ້ອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ທົ່ວໂລກ, ເຮັດໃຫ້ມັນສາມາດຂະຫຍາຍຈາກການເຊື່ອມໂຍງການຫຸ້ມຫໍ່ແລະການທົດສອບໃນປະຈຸບັນໄປສູ່ການເຊື່ອມໂຍງການຜະລິດຊິບທີ່ສູງຂຶ້ນ.