ASML e imec collaborano sulla tecnologia dei nodi di fascia alta per supportare la ricerca e sviluppo al di sotto dei 2 nm

In base all'accordo di collaborazione, ASML e imec sfrutteranno le tecnologie dei nodi di fascia alta di ASML, come 0,55 NA EUV, 0,33 NA EUV, immersione DUV, metrologia ottica YieldStar e tecnologie HMI a fascio singolo e multiplo per fornire all'ecosistema internazionale dei semiconduttori un'infrastruttura di ricerca e sviluppo sub-2nm all'avanguardia.