Imec und Zeiss bündeln ihre Kräfte, um die EUV-Lithographietechnologie voranzutreiben und die globale Digitalisierung voranzutreiben

Imec und Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology haben eine Vereinbarung unterzeichnet, um gemeinsam die Entwicklung wichtiger Halbleiterfertigungstechnologien wie der EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur voranzutreiben. Diese Technologie wird dazu beitragen, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips herzustellen, die die Grundlage für Schlüsseltechnologien wie Künstliche Intelligenz, Autonomes Fahren, Industrie 4.0 sowie bahnbrechende Lösungen in der Medizintechnik und der Energiewende bilden.