Imec et Zeiss unissent leurs forces pour promouvoir la technologie de lithographie EUV et promouvoir la numérisation mondiale

Imec et Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology ont signé un accord pour promouvoir conjointement le développement de technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute ouverture numérique. Cette technologie permettra de produire des micropuces plus puissantes et plus économes en énergie, qui constituent la base de technologies clés telles que l’intelligence artificielle, la conduite autonome, l’industrie 4.0, ainsi que des solutions révolutionnaires dans le domaine des technologies médicales et de la transition énergétique.