Imec ja Zeiss yhdistävät voimansa edistääkseen EUV-litografiateknologiaa ja edistääkseen maailmanlaajuista digitalisaatiota

Imec ja Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology ovat allekirjoittaneet sopimuksen edistääkseen yhdessä keskeisten puolijohteiden valmistusteknologioiden, kuten suuren numeerisen aukon EUV-litografian, kehittämistä. Tämä teknologia auttaa tuottamaan tehokkaampia ja energiatehokkaampia mikrosiruja, jotka ovat perustana keskeisille teknologioille, kuten tekoälylle, autonomiselle ajolle, Teollisuus 4.0:lle sekä uraauurtaville ratkaisuille lääketieteellisessä teknologiassa ja energian siirtymisessä.