Imec og Zeiss går sammen om at fremme EUV litografiteknologi og fremme global digitalisering

Imec og Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology har underskrevet en aftale om i fællesskab at fremme udviklingen af ​​nøgleteknologier til fremstilling af halvledere såsom EUV-litografi med høj numerisk blændeåbning. Denne teknologi vil hjælpe med at producere mere kraftfulde og energieffektive mikrochips, som er grundlaget for nøgleteknologier som kunstig intelligens, autonom kørsel, Industry 4.0 samt banebrydende løsninger inden for medicinsk teknologi og energiomstillingen.