Imec en Zeiss bundelen hun krachten om EUV-lithografietechnologie te promoten en wereldwijde digitalisering te bevorderen

Imec en Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology hebben een overeenkomst getekend om gezamenlijk de ontwikkeling van belangrijke technologieën voor de productie van halfgeleiders, zoals EUV-lithografie met hoge numerieke apertuur, te bevorderen. Deze technologie zal bijdragen aan de productie van krachtigere en energiezuinigere microchips, die de basis vormen voor sleuteltechnologieën zoals kunstmatige intelligentie, autonoom rijden, Industrie 4.0, maar ook baanbrekende oplossingen in de medische technologie en de energietransitie.