Imec an Zeiss zesummeschaffen Kräfte fir EUV Lithographie Technologie ze förderen an d'global Digitaliséierung ze förderen

Imec a Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology hunn en Accord ënnerschriwwen fir zesummen d'Entwécklung vu Schlëssel Halbleiter Fabrikatiounstechnologien wéi héich numeresch Apertur EUV Lithographie ze förderen. D'Technologie wäert hëllefen méi mächteg an energieeffizient Mikrochips ze produzéieren, déi d'Basis fir Schlësseltechnologien sinn wéi kënschtlech Intelligenz, autonom Fuere, Industrie 4.0, souwéi banebriechend Léisungen an der medizinescher Technologie an dem Energietransitioun.