Imec и Zeiss обединяват усилията си, за да популяризират EUV литографската технология и да насърчат глобалната дигитализация

Imec и Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology подписаха споразумение за съвместно насърчаване на развитието на ключови технологии за производство на полупроводници като EUV литография с висока цифрова апертура. Тази технология ще помогне за производството на по-мощни и енергийно ефективни микрочипове, които са в основата на ключови технологии като изкуствен интелект, автономно шофиране, Индустрия 4.0, както и новаторски решения в медицинските технологии и енергийния преход.