Imec a Zeiss spájajú svoje sily, aby podporili litografickú technológiu EUV a podporili globálnu digitalizáciu

Imec a Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology podpísali dohodu o spoločnej podpore vývoja kľúčových technológií výroby polovodičov, ako je EUV litografia s vysokou numerickou apertúrou. Táto technológia pomôže vyrábať výkonnejšie a energeticky efektívnejšie mikročipy, ktoré sú základom pre kľúčové technológie ako umelá inteligencia, autonómne riadenie, Priemysel 4.0, ako aj prelomové riešenia v medicínskych technológiách a energetickom prechode.