Imec וזייס מאחדים כוחות כדי לקדם את טכנולוגיית הליטוגרפיה EUV ולקדם דיגיטליזציה גלובלית

Imec ו-Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology חתמו על הסכם לקידום משותף של פיתוח טכנולוגיות מפתח לייצור מוליכים למחצה כגון ליטוגרפיה EUV עם צמצם מספרי גבוה. הטכנולוגיה תסייע לייצר שבבים חזקים וחסכוניים יותר באנרגיה, שהם הבסיס לטכנולוגיות מפתח כמו בינה מלאכותית, נהיגה אוטונומית, Industry 4.0 וכן פתרונות פורצי דרך בטכנולוגיה רפואית ובמעבר האנרגיה.