„Intel“ praneša, kad Airijoje pradės masinę 3 nm lustų gamybą

„Intel“ planuoja vėliau šiais metais pradėti masinę 3 nm lustų gamybą savo Fab34 gamykloje Airijoje. Tai yra antrasis bendrovės mazgas, kuriame naudojama EUV litografija ir 18 % geresnis našumas vienam vatui, palyginti su Intel 4. Procesas jau bus prieinamas liejyklos klientams Oregone (JAV) 2024 m., o 2025 m. bus perkeltas į Leixlip (Airija), kur bus galima gaminti didelės apimties.