أعلنت شركة إنتل أنها ستبدأ الإنتاج الضخم لشرائح 3 نانومتر في أيرلندا

تخطط شركة إنتل لبدء الإنتاج الضخم لشرائح 3 نانومتر في مصنعها Fab34 في أيرلندا في وقت لاحق من هذا العام. هذه هي العقدة الثانية للشركة التي تستخدم تقنية EUV Lithography وتقدم تحسنًا في الأداء بنسبة 18% لكل واط مقارنة بـ 4 من Intel. ستكون العملية متاحة بالفعل لعملاء المصانع في ولاية أوريغون بالولايات المتحدة الأمريكية في عام 2024 وسيتم نقلها إلى ليكسليب بأيرلندا لإنتاج كميات كبيرة في عام 2025.