Intel ၏နည်းပညာအရာရှိချုပ်ဟောင်း Gelsinger သည် EUV exposure စက်နည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုကိုမြှင့်တင်ရန် xLight တွင်ပူးပေါင်းခဲ့သည်။

Intel CTO နှင့် CEO ဖြစ်သူ Gelsinger သည် ယခုအခါ အလွန်အမင်း ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် ထိတွေ့မှုစနစ်များအတွက် အလင်းအရင်းအမြစ်နည်းပညာကို တီထွင်ရန် အာရုံစိုက်ထားသည့် xLight ၏ အမှုဆောင်ဥက္ကဋ္ဌ ဖြစ်လာသည်။ EUV exposure machine technology သည် အဆင့်မြင့်လာပြီး လက်ရှိတွင် ASML သာလျှင် ဆက်စပ်စနစ်များကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ Kissinger က xLight သည် ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်နှင့် ကုန်ကျစရိတ်များကို သိသိသာသာလျှော့ချပေးမည့် စွမ်းအားမြင့် LPP အရင်းအမြစ်ကို ဖန်တီးထားသည်ဟု ဆိုသည်။ ၎င်းတို့သည် အလင်းရင်းမြစ်ကို 2028 ခုနှစ်တွင် စတင်ထုတ်လုပ်ရန် စီစဉ်နေပြီး ၎င်းသည် လက်ရှိ ASML ကိရိယာများနှင့် တွဲဖက်အသုံးပြုနိုင်မည်ဟု မျှော်လင့်ပါသည်။