台积电和三星有意采用ASML高数值孔径EUV光刻机
ASML
EUV
芯片
制造
光刻
光刻机
三星
ASM
2024-04-18 20:42
0
台积电和三星已确认有意采用ASML的高数值孔径EUV光刻机。这两家公司都在寻求提高芯片制造技术的先进性。
Prev:英特尔购买首台高数值孔径EUV光刻机
Next:宁德时代与深圳展开全方位合作
快报
一手资料
数据
个人中心