ASML与蔡司联合研发HyperNA光刻机，目标5nm分辨率

全球光刻机巨头ASML近日宣布，已与战略合作伙伴蔡司共同启动HyperNA光刻机的研发项目，目标实现突破性的5nm分辨率。这一技术路线图的公布，预示着半导体制造领域即将迎来新一轮技术竞赛。