台积电放弃购买昂贵光刻机，转而采用新技术

据报道，台积电决定不购买价格高达4亿美元的ASML高数值孔径EUV光刻机，而是选择采用“光掩模护膜”技术来推进其2纳米等先进制程的研发与生产。这一决策主要是出于成本考虑，因为高数值孔径EUV光刻机的价格过于高昂，而且其供应量有限，每年只能生产五到六台。此外，使用标准EUV光刻机生产1.4纳米和1纳米级别的芯片需要进行更多次曝光，这可能会拖慢生产节奏并影响芯片良率。因此，台积电需要通过大量的“试错”来优化生产的可靠性。