台积电采用多重曝光方法实现1.6nm制程

台积电在最新的研发进展中透露，通过采用多重曝光方法，公司已成功实现在现有的EUV光刻机上实现1.6nm制程的目标。这一突破性技术将为半导体行业带来更高的生产效率和更低的成本。