美光计划在广岛新建EUV光刻DRAM内存晶圆厂

美光公司计划投资6000~8000亿日元，在日本广岛建设新的DRAM内存晶圆厂。该晶圆厂将引进EUV光刻机，计划于2026年初动工，有望于2027年末正式投产。美光将在2025年量产的下代1-gamma (nm) 节点正式导入EUV光刻技术。