阿斯麦公布新一代Hyper-NA EUV光刻机技术蓝图

阿斯麦公布了新一代Hyper-NA EUV光刻机的技术蓝图，目前处于开发早期阶段。该公司前技术长Martin van den Brink表示，Hyper-NA EUV光刻机需改进光源系统，并将生产效率提升至每小时400至500片晶圆。