阿斯麦计划推出先进Hyper-NA EUV光刻机设备

根据朝鲜日报的报道，荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）计划在2030年推出用于1纳米以下制程的先进Hyper-NA EUV光刻机设备。然而，预计每台设备的价格可能超过7.24亿美元，这可能会使台积电、三星和英特尔等半导体晶圆代工厂商望而却步。