公司之前提到过已有光刻对准检验机产品并中标过上海新微半导体采购项目，请问光刻对准检验机载半导体光刻各流程环节中起什么作用？国产替代前景如何？谢谢

天准科技：您好，感谢对公司的关注。MueTec于2021年中标上海新微套刻误差量测设备。套刻（Overlay）误差量测设备主要用于量测半导体制造工艺中前后叠层之间对准的套刻误差，MueTec的套刻（Overlay）误差量测设备可覆盖65-90nm工艺节点，目前公司苏州团队和MueTec团队正在合作开发更先进制程的套刻误差量测设备。