Rapidus购入首台ASML EUV光刻机，推进2nm GAA半导体工艺制造

Rapidus公司宣布，其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在IIM-1工厂交付并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV光刻系统。这款光刻机可以满足Rapidus首代量产工艺2nm的制造需求，与前款NXE:3600D相比，晶圆吞吐量提升了37.5%。