Erfolgreiche Integration des KNN-Dünnfilms auf einem 8-Zoll-Siliziumwafer

Die Sumitomo Chemical Corporation aus Japan gab kürzlich bekannt, dass sie erfolgreich KNN-Dünnfilme auf großen (8 Zoll) Siliziumwafern abgeschieden und eine gute Gleichmäßigkeit der Dicke erreicht hat. Dieser Erfolg stellt eine wichtige Unterstützung für die Kommerzialisierung von KNN-Filmen dar und trägt dazu bei, den Anforderungen der piezoelektrischen MEMS-Industrie gerecht zu werden. Darüber hinaus haben Forscher der Universität Grenoble-Alpes und der Universität Rennes 1 in Frankreich den fortschrittlichsten KNN-Film mithilfe eines industrietauglichen Prozesses auf einer 8-Zoll-Siliziumwafer-Technologieplattform in MEMS-Aktorgeräte integriert.